冷态输送ZrCl_4低压化学气相沉积ZrC涂层的制备

作者：刘岗; 李国栋; 熊翔; 王雅雷; 陈招科; 孙威

来源：航空材料学报, 2011, (06): 36-42.

• ZrC涂层
• CVD
• 冷态输送ZrCl4
• 表面形貌
• 组织结构
• 生长机理 ZrC film
• the transportation of the solid ZrCl4
• surface morphology
• structure
• mechanism

采用ZrCl4-CH4-H2-Ar反应体系,冷态输送ZrCl4粉末化学气相沉积(CVD)制备ZrC涂层。采用热力学计算并结合实验结果分析了冷态输送ZrCl4化学气相沉积ZrC涂层的特点,采用X射线衍射仪和扫描电镜分析了涂层的物相组成、表面形貌和组织结构。结果表明:冷态输送ZrCl4粉末大幅度降低了ZrC的化学气相沉积温度,且容易获得大面积、结构均匀的ZrC涂层。涂层表面由直径在20～80nm之间的颗粒组成,为无规则"田状"组织。涂层结构主要为柱状晶,沿(200)面优先生长。分析了这种新型"田状"ZrC涂层组织的形成机理以及ZrC涂层的生长机制。

• 单位
  粉末冶金国家重点实验室; 中南大学