磁控反应溅射MoS_2/Ti/C复合薄膜的组织结构及摩擦磨损性能

作者：李倩倩; 尹桂林; 郑慈航; 余震; 何丹农

来源：材料保护, 2011, (03): 14-16+88.

DOI：10.16577/j.cnki.42-1215/tb.2011.03.003

• 磁控反应溅射
• MoS2/Ti/C薄膜
• MoS2薄膜
• 组织结构
• 摩擦磨损性能 magnetron reaction-sputtering
• MoS2/Ti/C film
• MoS2 film
• microstructure
• tribological properties

为了提高MoS2薄膜在室温潮湿大气条件下的摩擦磨损性能,通过磁控反应溅射制备了MoS2/Ti/C复合薄膜。采用能谱仪(EDS)、X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电子显微镜(FESEM)对薄膜的成分、相组成和形貌进行表征,采用纳米压痕仪测试薄膜的结合力、纳米压痕硬度,采用多功能微摩擦磨损试验机测试薄膜的摩擦系数,并采用真彩色高分辨率共聚焦显微镜观察薄膜的磨损形貌。结果表明:与MoS2薄膜相比,含非晶态Ti和C的MoS2/Ti/C复合薄膜的(002)滑移面平行于基体表面生长,不含(100)面,结构致密,与基体的结合力提高了7.05倍,纳米压痕硬度提高了7.11倍;在室温潮湿大气条件下,MoS2/...

• 单位
  纳米技术及应用国家工程研究中心; 上海交通大学