单晶硅中过渡族金属镍对洁净区形成的影响(英文)

作者：吴冬冬; 杨德仁; 席珍强; 阙端麟; 钟尧

来源：Pan Tao Ti Hsueh Pao/chinese Journal of Semiconductors, 2006, (04): 623-626.

• 硅
• 镍
• 洁净区 silicon
• nickel
• denuded zone

研究了过渡族金属镍在快速热处理作用下对直拉单晶硅中洁净区形成的影响.实验结果发现:硅中魔幻洁净区(MDZ)形成后,氧沉淀及其诱生缺陷能有效地吸杂金属镍;而沾污金属镍的硅中,随后的快速热处理工艺不能形成MDZ,硅片近表面出现大量沉淀.采用传统的内吸杂工艺,镍沾污的次序对洁净区的形成没有影响.实验表明由于硅片表面形成的镍硅化合物的晶格常数比硅小,所以在硅片近表面产生高浓度的空位,导致近表面的氧依然能够在MDZ工艺中形成沉淀.

• 单位
  北京控制工程研究所; 浙江大学; 硅材料国家重点实验室; 中国空间技术研究院