中频磁控溅射制备类金刚石薄膜的功率因素研究

作者：邬苏东; 彭志坚; 陈新春; 杨义勇; 王成彪; 付志强

来源：稀有金属材料与工程, 2009, S2: 579-582.

• 中频磁控溅射
• 类金刚石薄膜
• 摩擦磨损性能

采用SP0806AS中频磁控溅射镀膜机,在硅(100)和高速钢基体上,采用双石墨靶在不同功率下沉积了类金刚石薄膜。研究表明,在功率为5～7kW下薄膜具有较低的ID/IG比;所得薄膜表面平整,粗糙度Ra值在1.5～2.8nm之间,薄膜厚度随功率增加而增大;在100～200nmTi膜作为过渡层条件下,薄膜纳米硬度和弹性模量随功率增加呈先增大后减小趋势,硬度/杨氏模量比值先增大后减小,当功率为7kW时具有较高值;划痕实验临界载荷随功率增加先增大后减小,最大可大于50N;薄膜的摩擦系数较小,平均摩擦系数可小于0.15;在50g载荷下,薄膜磨穿的时间超过300min。确定SP0806AS中频磁控溅射镀膜机沉积类金刚石薄膜的最佳功率范围是5～7kW。