用不同合成体系制备黑色立方氮化硼的研究

作者：杜勇慧; 张铁臣; 张伟森

来源：高压物理学报, 2011, (03): 242-246.

• 立方氮化硼
• 触媒
• 添加剂
• 残余应力 cBN
• catalyst
• additive
• residual stress

立方氮化硼(cBN)晶体随颜色的加深,晶体的晶形越完整,晶体尺寸也越大。采用Mg+hBN、LiH+hBN、Li3N+hBN+B和B+Li3N 4种体系分别合成出了黑色的立方氮化硼晶体。通过光学显微镜、X射线衍射、拉曼光谱等测试分析手段,从合成条件、晶体形貌、颗粒度及残余应力等方面对不同体系合成出的黑色cBN晶体作了比较。结果表明,不同体系的合成效果有很大差别。在实际应用中应该根据需要采用不同的体系,以达到最优化合成目的。

• 单位
  物理学院; 北华大学; 吉林大学; 超硬材料国家重点实验室