氧分压对脉冲激光沉积β-Ga₂O_3-δ薄膜光学性能的影响（英文）

作者：李留猛; 周斌; 高立宸; 姜凯; 朱亮清; 张金中; 胡志高; 褚君浩

来源：红外与毫米波学报, 2022, 41(01): 279-284.

• 氧化镓
• 脉冲激光沉积
• 氧分压
• 光学性质

在不同氧分压下,用脉冲激光沉积法在c-蓝宝石衬底上制备了高质量β-Ga2O3-δ薄膜。通过X-射线衍射、远红外反射光谱、X-射线光电子能谱和紫外-可见-近红外透射光谱系统地研究了β-Ga2O3-δ薄膜的晶格结构、化学计量比和光学性质。X-射线衍射分析表明,所有沉积的薄膜以（-201）晶向方向生长。透射光谱显示薄膜在255 nm以上的紫外-可见-近红外波段具有80%以上的高透明度,同时在255 nm附近有一个陡峭的吸收边。此外,利用Tauc-Lorentz （TL）色散函数模型和Tauc公式,我们提取了β-Ga2O3-δ薄膜的光学常数和光学直接带隙。更进一步,我们通过理论计算解释了氧气分压对β-Ga2O3-δ薄膜光学性质的影响。

• 单位
  复旦大学; 山西大学; 华东师范大学