采用计算流体力学软件(CFD)对化学气相沉积法制备石墨烯过程中CVD反应器内温度场及压力场进行模拟,分别研究了两种初始压力下反应器内温度及压力变化情况。研究结果表明在初始的常压条件下反应器内温度分布及压力分布均匀性较差,导致气体流动性也较为紊乱,而在低压条件下反应器内温度及压力分布较为均匀,甲烷气体平稳流经过反应加热区,从而有助于石墨烯整个合成过程的稳定进行。
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