自由曲面磁流变抛光最佳压力场获取方法

作者：杨航; 王春; 黄文; 何建国; 贾阳

来源：电子机械工程, 2022, 38(01): 54-59.

DOI：10.19659/j.issn.1008-5300.2022.01.010

• 自由曲面
• 磁流变抛光
• 去除函数
• 压力场
• 形态学分析

针对自由曲面光学元件面形较复杂的特点，文中提出了一种磁流变抛光最佳的压力场获取方法。首先通过对磁流变抛光自由曲面光学元件抛光区域的压力场进行分析，得到压力场影响因素；其次，结合压力场影响因素，基于几何相贯理论建立压力场量化形态学评价方法；然后，基于自由曲面的几何模型，将该方法分别用于平面、不同曲率的球面和自由曲面，进行不同浸入深度和不同角度的分析，得到对应的压力场面形，再进行压力场形态学评价计算；最后通过对所得的实验数据进行分析，证明该方法能够很好地表征压力场形态学参数。

• 单位
  遵义师范学院; 武汉光电国家实验室; 华中光电技术研究所; 中国工程物理研究院机械制造工艺研究所