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摘要
二次电子发射现象在显微分析、电子倍增、航空航天、高压输电和粒子加速器等中广泛存在，因此开展二次电子的相关研究具有重要的应用价值。本文首先介绍了二次电子的相关背景；随后从入射电子与材料相互作用到最终二次电子产额测量的全过程出发，将影响二次电子产额的因素分成了入射电子性质、材料属性、样品表面状态、测试条件与方法四个大类，并对其进行了文献调研和综合分析；最后总结了目前研究取得的进展，梳理了相关规律，指出了存在的不足之处，探讨了该领域可能的发展趋势。
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二次电子发射现象在显微分析、电子倍增、航空航天、高压输电和粒子加速器等中广泛存在，因此开展二次电子的相关研究具有重要的应用价值。本文首先介绍了二次电子的相关背景；随后从入射电子与材料相互作用到最终二次电子产额测量的全过程出发，将影响二次电子产额的因素分成了入射电子性质、材料属性、样品表面状态、测试条件与方法四个大类，并对其进行了文献调研和综合分析；最后总结了目前研究取得的进展，梳理了相关规律，指出了存在的不足之处，探讨了该领域可能的发展趋势。
