亚铁氰化钾对以次磷酸钠为还原剂化学镀铜的影响

作者：甘雪萍

来源：材料工程, 2009, (04): 39-44.

• 亚铁氰化钾
• 次磷酸钠
• 化学镀铜
• 沉积速度
• 晶体结构
• 表面形貌 K4Fe(CN)6
• hypophosphite
• electroless copper plating
• deposition rate
• crystal structure
• surface morphology

研究亚铁氰化钾对化学镀铜沉积速度、镀层成分、电阻率、微观结构、表面形貌和化学镀铜过程中氧化还原反应的影响。添加亚铁氰化钾可以显著降低沉积速度,使镀层变得均匀致密,颜色也从棕黑色变为亮铜色,电阻率明显降低。添加亚铁氰化钾还可使镀层P含量略微降低,改善镀层微观结构,晶粒尺寸增大,镀层由(111)晶面择优取向变为(220)晶面择优取向。亚铁氰化钾主要通过吸附作用抑制在镀层表面发生的次磷酸钠氧化反应而降低化学镀铜沉积速度。亚铁氰化钾还可明显降低化学镀铜过程中NaH2PO2/CuSO4消耗摩尔比。