氟化非晶态碳膜(a-C:F)的制备与表征

作者：姚志强; 杨萍; 孙鸿; 黄楠

来源：功能材料, 2004, (2): 169-171.

DOI：10.3321/j.issn:1001-9731.2004.02.012

• a-C:F薄膜
• X射线光电子能谱
• 拉曼光谱
• 接触角
• 纳米压痕

采用等离子体浸没与离子注入装置,以CF4和CH4作为源气体,在Si(100)基片上制备了含氟量不同的一系列氟化非晶态碳膜.通过XPS、FTIR和Raman对其结构进行了表征.采用躺滴法测量薄膜与双蒸水之间的接触角.薄膜硬度通过纳米压痕仪进行测量.XPS和FTIR结果表明存在C-CF、C-Fx基团和少量的氧.我们认为薄膜中存在的氧元素是由于薄膜在正常存放时发生了时效过程,其中的悬挂键发生化学吸附

• 单位
  西南交通大学