浅层产水气藏配套开发工艺技术探析

作者：张雪刚; 王锐; 王文岗; 杨伟涛

来源：化工设计通讯, 2017, 43(09): 70.

• 浅层产水气藏
• 配套开发
• 工艺技术 shallow water gas reservoir
• supporting development
• process technology

浅层产水气藏开发过程中,由于气井出水的影响,有必要采取配套开发工艺技术措施,提高气井的产能,降低产水对产气的影响。浅层气藏埋藏的比较浅,边水和底水推进的速度快,引起气层产水,影响到气井的产气量。