基于圆周成像的外场干扰优化方法及系统

作者:赵欣瑜; 左炎春; 余乐; 刘伟; 李金本; 刘蛟; 卢雅雯; 刘迎澳; 郭立新
来源:2023-07-31, 中国, CN202310944938.8.

摘要

本发明公开了基于圆周成像的外场干扰优化方法及系统,具体按照如下步骤进行:步骤1:安装并连接实验设备;步骤2:将外场测试架置于场地中心,扫描实验场地;步骤3、计算得到圆周成像结果;步骤4、对圆周成像结果进行边缘检测,得到干扰源数量;步骤5、将干扰源数量设置为聚类簇数量,取簇内散射中心平均强度作为干扰源散射强度;步骤6、采用吸波材料对干扰源进行覆盖;步骤7、评估干扰覆盖率,若覆盖效果未达到要求,则重复步骤2至步骤6,迭代至外场环境满足实验的要求。本发明可以对外场环境中的强电磁散射干扰源进行清晰成像和精准定位,吸波覆盖手段效果明显,对外场干扰散射特性测量有一定的应用价值。