SiC涂层石墨基座技术及产业发展研究

作者：王玉

来源：新材料产业, 2022, (03): 58-60.

DOI：10.19599/j.issn.1008-892x.2022.03.013

<正>1碳化硅（SiC）涂层石墨基座基本情况1.1基本概念SiC涂层石墨基座常用于金属有机物化学气相沉积（MOCVD）设备中支撑和加热单晶衬底的部件（图1）。MOCVD设备是化合物半导体单晶衬底外延生长的研发及产业化关键设备，