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摘要
原子层沉积（ALD）是一种高精度涂层制备的技术，薄膜膜厚可以实现原子水平的生长。该技术在薄膜厚度的控制、膜厚均匀性、复杂形状构件的覆盖程度等方面具有很大的优势，被认为是制备高致密度涂层非常有效的方法。本文通过对原子层沉积技术特征、关键技术问题和原子层沉积技术在航天相关领域应用的最新动态进行综述。针对原子层沉积技术反应温度窗口的确定和提高沉积速率两项关键技术，提出分别采用基于第一性原理的理论研究方法和空间原子层沉积技术（SALD）的技术路径，为原子层沉积技术在航天领域进一步发展和应用方向提供思路。
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