基于聚丙烯酰胺凝胶软印章的电化学纳米加工(英文)

作者：孙文; 樊海涛; 张大霄; 胡冬洁; 周勇亮

来源：电化学, 2013, (03): 262-266.

DOI：10.13208/j.electrochem.2013.03.014

• 微纳加工
• 电化学刻蚀
• 软印章
• 聚丙烯酰胺水凝胶 nanofabrication
• electrochemical etching
• soft stamping
• polyacrylamide hydrogel

电化学刻蚀使用腐蚀性小的电解质溶液,且溶液可使用周期长,是一种环境友好的加工工艺.本文采用聚丙烯酰胺水凝胶(PAG)作为软印章,辅以优化工艺,将电化学湿印章技术(E-WETS)的加工精度从几十微米提高到了200纳米.将新配制的聚丙烯酰胺水凝胶浇注在具有纳米结构的软模板表面,固化后脱模并保存于0.2mol·L-1KCl溶液中,在合适电位和压力下,对硅片表面金膜进行电化学湿法刻蚀,分别研究了聚丙烯酰胺水凝胶的聚合条件、电化学加工电位以及水凝胶表面压力对加工结果的影响.实验表明,在最优条件下可加工出直径为200纳米的特征点阵结构,且该方法具有较好的可靠性和稳定性。

• 单位
  厦门大学; 固体表面物理化学国家重点实验室; 化学化工学院