气体压强对n型a-Si:H薄膜光学性能的影响

作者：李伟; 陈宇翔; 金鑫; 姜宇鹏; 杨光; 蒋亚东

来源：电子科技大学学报, 2009, (05): 730-733.

• 傅里叶变换红外光谱
• 气体压强
• 氢化非晶硅
• 光学性能
• 拉曼光谱 Fourier transform infrared spectra
• gas pressure
• hydrogenated amorphous silicon
• optical properties
• Raman spectra

用射频等离子增强化学气相沉积(RF-PECVD)制备磷掺杂氢化非晶硅(a-Si:H)薄膜,研究了辉光放电气体压强(20～80Pa)对薄膜折射率、消光系数、光学带隙以及氢含量的影响;用激光拉曼光谱研究了气体压强对a-Si:H薄膜微结构的影响,并与薄膜的光学性能进行了综合讨论。结果表明,随着辉光放电气体压强的增加,a-Si:H薄膜的光学带隙和氢含量都有不同程度的增大,但折射率和消光系数却逐步减小;与此同时,薄膜内非晶网络的短程和中程有序程度逐渐恶化。

• 单位
  电子薄膜与集成器件国家重点实验室; 电子科技大学; 光电信息学院