半导体单晶抛光片清洗技术分析

作者：张凇铭

来源：电子测试, 2018, (18): 131.

DOI：10.16520/j.cnki.1000-8519.2018.18.066

• 半导体
• 单晶抛光片
• 清洗技术

本文以半导体单晶抛光片清洗原理为入手点,结合铬、砷化镓、硅等半导体单晶抛光片污染物质来源,对半导体单晶抛光片清洗技术进行了简单的分析,以便为半导体单晶抛光片清洗效率的提升提供依据。