镀铬对光刻胶全息光栅掩模槽形的影响

作者：陈刚; 吴建宏; 刘全

来源：光学仪器, 2007, 29(6): 81-84.

DOI：10.3969/j.issn.1005-5630.2007.06.018

• 衍射光栅
• 全息光栅掩模
• 铬膜
• 槽形

为了研究镀铬对光刻胶光栅掩模槽形的影响,分析了铬膜反射引起的沿垂直光刻胶表面的驻波效应.分析表明驻波效应的对比度为0.28,不能忽略.将镀铬基底与普通的玻璃基底的掩模槽形对比,发现明显的不同.槽形模拟表明这种不同是由于驻波效应引起的.驻波效应会使掩模形成阶梯结构,且阶梯高度差正好为驻波波节间距离.

• 单位
  苏州大学; 南京信息职业技术学院