微波等离子CVD低温沉积金刚石膜及其表征

作者：王琳; 王永明; 刘桂珍; 周建

来源：武汉理工大学学报, 2007, (04): 49-51+78.

• 金刚石膜
• 低温
• MPCVD
• 氩气 diamond films
• low temperature
• argon

采用CH4/Ar/H2气源系统,以Si(111)为基片在微波等离子CVD系统中通过工艺的优化在350℃沉积了金刚石膜。研究了不同的基片预处理工艺、微波功率对金刚石结构的影响,用XRD、SEM等测试方法进行了表征,XRD测试结果表明金刚石膜中仍存在缺陷和杂质,SEM测试结果表明金刚石膜由200 nm的球状颗粒组成,存在二次成核现象。

• 单位
  材料复合新技术国家重点实验室; 武汉理工大学