摘要
通过固-液-气(VLS)生长机制,利用化学气相沉积法(CVD)制备SnO2纳米线。利用原子层沉积(ALD)以钛酸四异丙酯为前驱体在SnO2纳米线表面沉积不同厚度的TiO2壳层,形成SnO2@TiO2核-壳纳米线结构。通过中间Al2O3插层,分别制备出金红石和锐钛矿2种不同晶型的TiO2,从而制备出2种不同复合结构的SnO2@TiO2核-壳纳米线。实验研究该复合结构中TiO2的厚度与晶型对紫外光下光催化降解甲基橙溶液活性的影响。
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单位西安交通大学; 金属材料强度国家重点实验室