研究了一种在连续化电镀过程中,可有效地去除溶液中铜杂质的工艺方法。向连续镀镍溶液中添加一种铜掩蔽剂,可以使镀层中铜的质量分数降低80%左右,且不影响溶液体系中杂质的积累和镀层的物理性能及电流效率。此工艺方法适用于连续化电镀生产。
科研之友
微信
新浪微博
Facebook
分享链接
