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摘要
光源选择对于基于紫外（UV）的高级氧化工艺（UV-AOPs）十分重要。通过细管流光反应系统（MFPS）对比了低压UV（LPUV）汞灯、中压UV（MPUV）汞灯及真空UV/UV（VUV/UV）汞灯3种UV光源下UV/H2O2工艺对四环素（TC）的降解动力学,并建立了降解动力学模型。结果表明,VUV/UV光源对TC(0.1 mg·L-1和5.0 mg·L-1)的光降解速率常数明显大于LPUV与MPUV光源。随着初始投加H2O2浓度的增大,LPUV/H2O2和MPUV/H2O2对TC(0.1 mg·L-1和5.0 mg·L-1)的降解速率常数快速增大。然而,VUV/UV/H2O2对低质量浓度TC(0.1 mg·L-1)的降解速率常数随H2O2浓度的增大逐渐降低,对高质量浓度TC(5.0 mg·L-1)的降解速率常数逐渐增大。实验结果与降解动力学模型模拟相符。在实际UV-AOPs光源选择中,单纯降解动力学对比具有测试结果准确性高、费用低等优势,但存在无法考虑灯效、氧化剂费用等缺点,因此,还应结合中试实验的能耗对比综合考虑。
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