Si_(90)Al_(10)N_x薄膜的工艺控制及光学性能研究

作者：陈君; 周红; 余森江

来源：真空, 2013, (04): 22-25.

DOI：10.13385/j.cnki.vacuum.2013.04.003

• 磁控溅射
• 工艺研究
• 折射率
• 消光系数
• 分压比 magnetron sputtering
• technical study
• refractive index
• extinction coefficient
• partial pressure ratio

通过改变磁控溅射过程中氩气与氮气(Ar/N2)的分压比,制备了多种不同厚度的Si90Al10Nx薄膜样品,并采用透射率轮廓法对样品在热处理前后的光学性能(包括折射率和消光系数)进行了测量和分析。结果表明,样品的光学性能可通过调整Ar/N2的流量比、薄膜厚度、退火条件等工艺参数加以控制。

• 单位
  中国计量大学