低温氧等离子体处理对单层二硫化钼薄膜表面性质影响的研究

作者：张伟冰; 祝俊; 王权

来源：真空科学与技术学报, 2017, (10): 1003-1007.

DOI：10.13922/j.cnki.cjovst.2017.10.12

• 单层二硫化钼薄膜
• 低温氧等离子体
• 相位
• 表层电荷 Monolayer molybdenum disulfide film
• Low temperature oxygen plasma
• Phase
• Surface charge

二硫化钼是一种类似于"三明治"结构的二维片层结构,这种特殊的结构造就了其优异的物理化学性能,具有较大的理论研究意义。本次实验运用低温氧等离子体对机械剥离的单层二硫化钼薄膜进行改性处理,研究控制处理时间不同的条件对二硫化钼薄膜的均匀度和表层电荷的影响。拉曼光谱图显示处理后的二硫化钼薄膜的E12g峰和A1g向右发生了明显的偏移,表明引入了N型掺杂。运用原子力显微镜探究材料形貌、相位和表面电荷的变化,从形貌图发现低温氧等离子体处理后的表面粗糙度有了明显的增加;原子力显微静(AFM)的相位图表明样品的均匀度以一定的规律变小;根据(AFM)表层电荷分布图,观察到低温氧等离子体处理后样品表层电荷随处理时间...

• 单位
  传感技术国家重点实验室; 江苏大学