硬质合金基体FCVA沉积TiAlN薄膜的试验研究

作者：周友龙; 谷祥帅; 黄楠

来源：工具技术, 2008, (09): 22-24.

DOI：10.16567/j.cnki.1000-7008.2008.09.007

• FCVA
• 显微硬度
• XRD
• 摩擦磨损
• 结合力

采用磁过滤阴极真空弧源(FCVA)沉积技术,通过改变氮气流量在硬质合金基体上沉积了TiAlN薄膜,用显微硬度计测定了TiAlN薄膜的硬度和厚度;采用X射线衍射(XRD)分析技术进行了TiAlN薄膜的相分析;并进行了摩擦磨损试验和对基体与薄膜的结合力进行定性的分析。结果表明:TiAlN薄膜厚度在450~520nm之间;最高硬度为2754Hv,对应氮气分压为N2分压在8.0×10-2Pa~1.1×10-1Pa;薄膜中主要存在Ti2AlN、Ti2N与TiN相。

• 单位
  西南交通大学