低温高磁感取向硅钢常化工艺中间冷却制度的研究

作者:颜建新; 樊立峰; 仇圣桃; 齐渊洪
来源:热加工工艺, 2014, 43(11): 27-37.
DOI:10.14158/j.cnki.1001-3814.2014.11.046

摘要

借助电子背散射(EBSD)技术对AlN为主抑制剂的Hi-B取向硅钢常化工艺的中间冷却制度进行了研究。结果表明:常化后试样均发生了完全再结晶,在60℃/s冷速下组织最均匀;在合适的冷却制度下常化板表层保留了强的Goss织构,它深入到1/4厚度处,并且形成对Goss织构有利的强{554}<225>织构。

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