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摘要
技术深度反映创新主体在特定技术领域中专门知识和技能的累积程度，已有研究发现不同深度的技术知识对创新过程和创新结果产生影响，技术深度对专利价值的影响机制是一个值得探讨的有趣问题。本研究以2000～2021年USPTO的中国授权发明专利数据为样本，利用相关性分析方法对4种技术深度测度方法进行一致性检验，遴选出Ozman方法，并对技术深度进行测度。在此基础上，使用负二项回归模型，以被引次数为专利价值的代理变量，使用负二项回归模型对技术深度对专利价值的影响关系进行实证研究。结果表明，技术深度对专利价值有显著的正向影响。本研究认为，在培育高价值专利的政策目标下，增加技术深度是另一个重要的政策工具路径，支持“专精特新”企业的创新政策有望诱导技术深度的持续进步和培育高价值专利。
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