化学刻蚀法制备金属超疏水表面的方法及机理研究

作者：刘韬; 底月兰^*; 王海斗; 刘莹; 王乐; 董丽虹

来源：表面技术, 2019, 48(11): 226-235.

DOI：10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2019.11.024

• 化学刻蚀
• 超疏水表面
• 表面接触模型
• 表面微结构
• 低表面能修饰

超疏水表面应用广泛,价值巨大。构筑超疏水表面的方法众多,化学刻蚀具有方法简单、效果显著的特点。针对金属表面,研究刻蚀液成分、溶液配比及反应条件对材料疏水性能的影响以及低表面能修饰方法与机理。从Wenzel、Cassie基础理论模型展开,综述了不同的固-液接触状态及疏液机理,通过SEM图与关系曲线图,直观地展示了刻蚀方法与刻蚀反应条件对试样表面微观形貌与宏观疏水性能的影响。从理论分析的角度阐述了表面微结构形貌以及尺寸参数对于静态、动态疏水性能的影响。针对用于低表面修饰的修饰剂与官能团,对其修饰效果与修饰机理进行了说明。在此基础上,针对该方法目前存在的问题进行总结和梳理,并对刻蚀后表面疏水性能稳定性在不同情况下出现波动的原因进行深入分析。

• 单位
  中国人民解放军装甲兵工程学院; 南昌大学机电工程学院