摘要
采用循环伏安(CV)和X射线光电子能谱(XPS)对硫砷铜矿在pH值为9.2溶液中的电化学氧化过程以及电位对硫砷铜矿表面氧化相的构成影响进行研究。结果表明:硫砷铜矿在电位0.17 V(氧化峰A1电位范围)氧化,主要发生Cu部分离开矿物表面进入溶液形成缺铜硫化物(Cu3-xAsS4)的初步氧化过程,表面不存在Cu(Ⅱ)的氧化相,S氧化形成少量的Sn2-,As不发生氧化。当氧化电位提高到0.3 V(氧化峰A2电位范围),大量的Cu离开矿物表面进入溶液,表面仍然不存在Cu(Ⅱ)的氧化相,可能存在少量的CuSO4,但处于检测下限,表面存在一定量的Sn2-,不存在As的氧化相。当电位提高到0.5 V(氧化峰A2电位范围),发生Cu和As的氧化沉积过程,分别在矿物表面形成Cu(Ⅱ)氧化相(Cu(OH)2,CuSO4)和As2O3氧化相。此外,表面还存在一定的Sn2-相。当电位提高到0.8V(氧化峰A3电位范围),表面形成一定量的Cu(Ⅱ)氧化相(Cu(OH)2和Cu SO4),As仍然以As2O3的形式存在,S除形成CuSO4外,部分仍以Sn2-的形式存在。
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