基于DMD的数字光刻定焦变倍投影系统设计

作者：唐志方; 牟达^*; 杨旭; 陈炳旭; 高佳旭

来源：长春理工大学学报(自然科学版), 2019, 42(02): 52-56.

• DMD
• 数字光刻技术
• 光学设计
• 投影系统

随着数字光刻技术的快速发展,基于数字微镜器件(DMD)的光刻技术受到微纳加工及相关行业人员的广泛关注。为实现基于0.9WQXGA型DMD的数字光刻,同时为避免投影系统与照明系统存在重叠空间,为满足数字光刻时不同幅面尺寸和精度的需求,设计了具有分束棱镜的投影系统。镜头的有效焦距50mm,相对孔径1/3,像高11.6mm,光学总长142mm,工作波段395～415nm,后工作距为27～29mm,整个投影系统为像方远心系统,可将DMD放大10～15倍。在70lp/mm处,所有组态视场的MTF值都大于0.55,畸变绝对值都小于0.5%。此设计结果像质优良、结构紧凑、符合实际数字光刻使用要求。

• 单位
  长春理工大学