掺钛氧化锌透明导电薄膜的制备及特性研究

作者：刘汉法; 张化福; 袁玉珍; 袁长坤

来源：半导体技术, 2009, 34(11): 1092-1095.

• 掺钛氧化锌
• 透明导电薄膜
• 磁控溅射
• 靶衬间距 ZnO∶Ti
• transparent conducting films
• magnetron sputtering
• substrate to target distance

利用直流磁控溅射法在室温水冷玻璃衬底上成功地制备出了掺钛氧化锌(ZnO∶Ti)透明导电薄膜。研究了靶衬间距对ZnO∶Ti薄膜结构、形貌和光电性能的影响。研究结果表明,靶衬间距对ZnO∶Ti薄膜的结构和电阻率有显著影响。X射线衍射(XRD)表明,ZnO∶Ti薄膜为六角纤锌矿结构的多晶薄膜,且具有c轴择优取向。在靶衬间距为4.6 cm时,实验获得的ZnO∶Ti薄膜电阻率具有最小值4.18×10-4Ω.cm。实验制备的ZnO∶Ti薄膜具有良好的附着性能,可见光区平均透过率超过92%。ZnO∶Ti薄膜可以用作薄膜太阳能电池和液晶显示器的透明电极。

• 单位
  山东理工大学