Ti-O薄膜的溅射刻蚀微形貌表面对内皮细胞生长的影响

作者：田仁来; 黄楠; 陈俊英; 冷永祥; 王露

来源：功能材料, 2004, z1: 2481-2483.

DOI：10.3321/j.issn:1001-9731.2004.z1.696

• 磁控溅射
• 刻蚀
• Ti-O薄膜
• 表面形貌
• 内皮细胞

利用磁控溅射合成具有一定特性的Ti-O薄膜,并采用Ar离子溅射刻蚀该薄膜表面.运用原子力显微镜(AFM),X射线衍射(XRD)对刻蚀后的薄膜表面微观形貌、微结构进行表征.结果表明:薄膜的结构未发生变化,表面的粗糙度减小.进一步的人脐静脉内皮细胞(HUVEC)种植实验表明:表面粗糙度的变化对内皮细胞的贴附、生长与增殖有很大的影响.

• 单位
  西南交通大学