MFI型分子筛膜晶内孔道的在线CVD调变

作者：吴再娟; 洪周; 张玉亭; 顾学红

来源：南京工业大学学报(自然科学版), 2013, (04): 43-47.

• 分子筛膜
• 修饰
• H2/CO2分离 zeolite membrane
• modification
• H2/CO2 separation

采用在线化学气相沉积(CVD)法对全硅MFI型分子筛膜进行晶内孔道修饰,考察晶间缺陷对膜晶内孔道修饰效果的影响。采用硅烷水解法对缺陷较多的膜进行缺陷孔的修补,结合扫描电子显微(SEM),观察膜微结构的变化。结果表明:分子筛膜表面缺陷显著影响晶内孔道调变效果。500℃时,缺陷较少的膜经晶内修饰后H2/CO2分离因子由修饰前的2.7提高到42.3,H2渗透性由2.25×10-7mol/(m2.s.Pa)降至1.52×10-7mol/(m2.s.Pa)。经缺陷修补后的分子筛膜,其晶内修饰后的H2/CO2分离因子比未修补的膜有一定幅度的提高。

• 单位
  材料化学工程国家重点实验室; 南京工业大学