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摘要
目前基于数字微镜器件的无掩膜光刻系统离不开高精度的检焦系统，单独设计的检焦系统不仅会增加全系统结构的复杂度，还会增加装调的难度。因此提出一种基于深度学习的检焦方法，通过调节光路使曝光焦面和相机成像焦面重合，仅根据当前所成的图像即可实现焦平面的快速自动检测。该算法由粗检焦和精检焦两步组成，粗检焦利用深度学习模型对相机记录的图像进行分类，仅需90 ms就可判断当前基片的离焦区间；精检焦利用清晰度评价函数计算图像清晰度值，结合搜索算法即可在粗检焦的基础上准确找到焦平面。用5倍聚焦物镜进行实验，在（-40μm,40μm）的离焦区间内，检焦精度可达2μm，总用时不超过300 ms。仿真分析和实验验证结果表明，该方法具有结构复杂度低、检焦速度快、检焦精度高等优点，能够很好地应用于数字光刻领域。
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