“光刻技术”专题前言

作者：王向朝; 韦亚一; 邱建荣

来源：激光与光电子学进展, 2022, 59(09): 3.

• 光刻技术

<正>集成电路是现代工业的基础。光刻机是集成电路制造的核心装备，其技术水平决定了集成电路的集成度。几十年来，光刻机曝光波长从436 nm可见光波段减小到193 nm深紫外波段，再到目前最短的13.5 nm极紫外波段。投影物镜的数值孔径从初期的0.28增大到干式光刻机的0.93，再到浸液式光刻机的1.35。

• 单位
  浙江大学; 中国科学院上海光学精密机械研究所; 中国科学院微电子研究所