利用PCB碱性蚀刻废液制备高纯度纳米铜粉

作者：罗小虎; 陈世荣; 杨琼; 汪浩; 谢金平; 吴耀程; 梁韵锐

来源：电镀与涂饰, 2013, (04): 38-42.

DOI：10.19289/j.1004-227x.2013.04.011

• 碱性蚀刻液
• 回收
• 纳米铜
• 化学还原
• 水合肼 alkaline etching solution
• recovery
• copper nanoparticle
• chemical reduction
• hydrazine hydrate

采用液相化学还原法从碱性蚀刻废液中制备高纯度的纳米铜粉,以回收碱性蚀刻废液中的铜。研究了还原剂种类和用量、反应温度和反应时间对纳米铜粉形貌、粒度和分散性的影响。结果表明,制备纳米铜粉的最佳还原剂为水合肼,最优工艺条件为:PVP(聚乙烯吡咯烷酮)0.003g/L,CTAB(十六烷基三甲基溴化铵)0.002g/L,n(N2H4.H2O):n{[Cu(NH3)4]2+}=1:3,反应温度70°C,反应时间30min。采用最优工艺可制得球状、粒径在100nm范围内、纯度高、抗氧化性好的纳米铜,对碱性蚀刻废液中铜的回收率在98%以上。

• 单位
  广东工业大学; 广东致卓精密金属科技有限公司