退火真空度与氧化钒薄膜物相的相关性

作者：刘中华; 何捷; 孟庆凯; 王静

来源：硅酸盐学报, 2007, (3): 348-353.

DOI：10.3321/j.issn:0454-5648.2007.03.018

• 氧化钒
• 物相
• 真空度

以高纯五氧化二钒(V2O5)粉末(纯度≥99.99%,质量分数)为原料,用真空蒸发工艺制备出氧化钒薄膜,并测试其在真空退火前、后的X射线光电子能谱、X射线衍射谱及电阻-温度关系曲线.结果显示:低真空退火对氧化钒薄膜的还原性比高真空退火的强.但是,在高真空退火下得到的氧化钒薄膜的晶粒尺寸要比在低真空下退火的大.随退火温度升高,高真空下退火制备的薄膜经历了从VO2(B)到V02(B)与V6O13混合

• 单位
  四川大学; 辐射物理及技术教育部重点实验室