含氟硅酸的镀液成分对镀铬板性能的影响

作者：王悦鼎; 周雪荣; 李秀军; 兰剑; 李建中^*

来源：电镀与涂饰, 2022, 41(11): 777-783.

DOI：10.19289/j.1004-227x.2022.11.006

• 镀铬板
• 两步法
• 镀液成分
• 氟硅酸
• 耐蚀性
• 孔隙率

针对两步法镀铬工艺，采用电化学实验、X射线光电子能谱(XPS)以及扫描电子显微镜(SEM)等检测手段，就镀液中H2Si F6与CrO3的含量对镀铬液特性，镀层表面氧化铬和金属铬含量、孔隙率，以及镀铬板电化学性能的影响进行了分析。结果表明，CrO3含量对镀液电导率有明显影响，镀层内铬氧化物的含量以及镀液的pH主要由镀液内H2Si F6的含量所控制。第一步镀铬时，在镀液中H2Si F6为1.75 g/L、CrO3为150 g/L、H2SO4为0.7 g/L的条件下，镀铬板的腐蚀电位较正，腐蚀电流密度较小；在第二步镀铬中，当H2Si F6为0.30 g/L、CrO3为34 g/L、H2SO4为0.35 g/L时，镀铬板腐蚀电位较正，腐蚀电流密度较小。在此条件下镀液具备较高的电导率，所得膜层的孔隙率较低。

• 单位
  宝山钢铁股份有限公司; 东北大学