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铜电积技术的现状及发展
作者:朱茂兰; 涂弢; 朱根松; 杨珏
来源:
有色金属(冶炼部分)
, 2014, (08): 9-13.
铜电积
现状
研究
发展
摘要
概述了我国铜电积工业的发展历程与现状,总结了铜电积工艺的成果与不足,重点评述对阳极材料、电积添加剂及其检测、电解液杂质离子除杂等的研究。
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