Si-N-O薄膜结构对薄膜血液相容性的影响

作者:王起义; 杨苹; 郑楠; **; 孙鸿; 黄楠
来源:功能材料, 2009, (5): 843-845.
DOI:10.3321/j.issn:1001-9731.2009.05.039

摘要

采用非平衡磁控溅射(UBMS450)法在(100)单晶硅表面制备Si-N-O薄膜.利用X射线光电子能谱(XPS)表征薄膜的成分结构;用血小板粘附试验表征薄膜结构对薄膜血液相容性的影响.研究结果表明,以无机Si为主的Si-N-O薄膜,其血液相容性较差;键合少量O的Si3N4薄膜,其血液相容性较佳.Si-N-O薄膜中N含量和O含量的变化,是导致薄膜结构变化的重要因素.

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