等离子体辉光发射反馈监控技术在光学薄膜中的应用

作者：郭杏元; 罗志鹏; 战永刚

来源：装备制造技术, 2018, (08): 16-22.

• 等离子体辉光发射监控技术(PEM)
• 磁控溅射
• 减反射膜
• 氧化硅
• 氧化铌

目前光学减反光膜、光学装饰膜等广泛应用于消费电子行业,这些光学膜主要采用电子束蒸发和反应磁控溅射等方式制造。传统的反应磁控溅射光学膜具有致密度高、附着力好、颜色稳定等优点,但过氧态沉积速率低,生产效率不高。本文利用等离子体辉光发射监控技术(PEM)来稳定控制中频反应溅射过程中的靶状态,使靶材稳定在过渡态镀膜,既提高沉积速率,又不影响光学性能。实验结果表明,采用PEM反馈控制中频反应溅射制备氧化铌薄膜,777 nm处氧辉光强度设定值为40%时(过氧态标定为90%),沉积速率较传统的过氧态提高1-2倍;采用靶电压反馈控制中频反应溅射制备氧化硅薄膜,靶电压设定值为29%时(纯硅靶电压标定为90%),其沉积速率是过氧态的2～3倍。可见光透过率曲线显示没有明显增加吸收。按照此设定值制备4层AR膜,单炉镀膜时间由原来的2.3 h(过氧态镀膜)缩减到1 h,产能提高1倍以上。

• 单位
  深圳市三海科技有限公司