UV/H_2O_2/GAC去除自来水中有机物

作者：李绍峰; 邓爱华; 黄君礼

来源：哈尔滨商业大学学报(自然科学版), 2004, (04): 432-435.

DOI：10.19492/j.cnki.1672-0946.2004.04.015

• AOPs
• UV/H2O2/GAC
• 羟自由基
• 饮用水
• 深度处理 AOPs
• UV/H_2O_2/GAC
• hydroxide freedom radicle
• potable water
• advanced treatment

利用UV/H2O2系统去除自来水中的有机微污染物质,所需H2O2投量高,水力停留时间长;与GAC单元连用,H2O2投量3mg/L,HRT为8～15min,处理效果与O3/GAC系统相当;研究还表明UV/H2O2系统促进GAC去除自来水中有机微污染物质中起主要的是羟自由基的强氧化作用.

• 单位
  哈尔滨工业大学; 深圳职业技术学院