化学机械抛光技术发展及其应用

作者：李思; 张雨

来源：电子工业专用设备, 2019, 48(05): 1-20.

• 化学机械抛光设备
• 技术节点
• 集成电路

化学机械抛光技术是集成电路制造中的关键技术之一,是唯一可实现全局平坦化的工艺技术。根据集成电路技术节点与CMP的发展之间的对应关系,简述了化学机械抛光技术的产生、发展、应用、典型设备及其工艺耗材,并展望CMP技术的未来发展趋势。

• 单位
  中国电子科技集团公司第四十五研究所