湿法刻蚀提高硅刻蚀均匀性技术研究

作者：祝福生; 夏楠君; 赵宝君; 黄鑫亮; 王文丽

来源：电子工业专用设备, 2019, 48(05): 13-16.

• 湿法刻蚀
• 各向同性刻蚀
• 各向异性刻蚀
• 刻蚀均匀性

介绍了硅湿法刻蚀的工作原理,分析了影响硅刻蚀均匀性的主要因素,重点阐述了在湿法腐蚀设备中提高硅刻蚀均匀性的方法。

• 单位
  中国电子科技集团公司第四十五研究所