原子层沉积技术及其在铁电薄膜制备中的应用

作者：王志育; 焦岗成; 樊慧庆

来源：材料导报, 2007, S1: 220-222.

• 原子层沉积
• 铁电薄膜
• 原理与应用 atomic layer deposition
• ferroelectric film
• principle and application

讲述原子层沉积技术原理与特点的同时,进一步论述了它在沉积机理和实验真空度这两方面与传统薄膜沉积工艺的异同;综述了此技术在铁电薄膜制备研究方面的最新进展,前驱体的制备与选择、薄膜缺陷的控制以及表面化学反应动力学依然是当前原子层制备铁电薄膜研究的重点;最后展望了原子层沉积技术制备铁电薄膜的发展方向。

• 单位
  西北工业大学; 材料学院; 凝固技术国家重点实验室