含POSS光刻胶材料研究进展

作者：尤凤娟; 韩俊; 严臣凤; 王力元^*

来源：影像科学与光化学, 2019, 37(05): 465-472.

• 光致抗蚀剂
• 含POSS
• 光刻
• 耐蚀刻性

光致抗蚀剂又称光刻胶,是微电子加工过程中的关键材料。多面体低聚倍半硅氧烷(POSS)是一种具有规则的笼型结构的聚合物增强材料,由POSS改性的聚合物实现了有机-无机纳米杂化,POSS刚性结构的引入阻碍了聚合物分子的运动,可以显著提高聚合物的玻璃化转变温度(Tg),降低聚合物的介电常数,提高聚合物的力学性能,也提高了含POSS光致抗蚀剂的耐蚀刻性。基于这些优点,含POSS的光刻胶材料得到广泛关注。本文对含POSS光刻胶的研究进展作了简要介绍。

• 单位
  北京师范大学