分别采用格氏试剂和三氯化磷三步取代法合成了4个新的烷基修饰磷酸残基的亚磷酸酰胺单体,其结构经1HNMR和31PNMR表征.利用这些单体合成模型序列5′-dTTTxTT-3′,考察了单体及寡聚核苷酸序列在DNA/RNA合成条件下的稳定性,提出了固相合成含有烷基修饰磷酸残基的寡聚核苷酸序列裂解及脱保护条件.