能量过滤磁控溅射技术制备ITO薄膜及其特性研究

作者：姚宁; 常立红; 韩昌报; 邢宏伟; 葛亚爽; 崔娜娜; 王英俭; 张兵临

来源：真空科学与技术学报, 2011, (03): 278-282.

• ITO薄膜
• 光电性能
• 表面粗糙度
• 磁控溅射
• 能量过滤磁控溅射 ITO film
• Photoelectric properties
• Surface roughness
• DC magnetron sputtering
• Energy filtered DC magnetron sputtering

采用磁控溅射(DMS)和能量过滤磁控溅射(EFDMS)技术在玻璃衬底上制备ITO透明导电薄膜。利用扫描电子显微镜、原子力显微镜、X射线衍射、紫外-可见分光光度计、四探针电阻仪、椭偏光谱仪等对薄膜的性能进行表征和分析,初步探讨了EFDMS技术的成膜机理。研究发现与DMS技术相比,EFDMS技术可有效降低薄膜的表面粗糙度,并且薄膜光电性能有一定改善。

• 单位
  中国科学院，安徽光学精密机械研究所; 中国科学院安徽光学精密机械研究所; 郑州大学