能量过滤磁控溅射技术制备Te薄膜及其光学性能研究

作者：张世慧; 姚宁^*; 田维民; 王朝勇; 贾瑜

来源：郑州大学学报(理学版）, 2020, 52(02): 102-107.

DOI：10.13705/j.issn.1671-6841.2019163

• 能量过滤磁控溅射
• Te薄膜
• 光学性质
• 椭圆偏振光谱仪

利用自主改进后的能量过滤磁控溅射(energy filtering magnetron sputtering,EFMS)技术制备Te薄膜,研究了沉积温度对薄膜结晶特性、表面形貌以及光学性能的影响。研究结果表明所制备的薄膜为纯Te膜。在100℃时制备出的薄膜结晶较好,表面颗粒较大且比较均匀,200℃时薄膜表面形貌发生改变,由颗粒状变为交错分布的棒状结构。200℃时制备的薄膜在红外波段的消光系数和折射率相对较小。室温制备的薄膜的平均透过率为9.1%;200℃制备的薄膜的平均透过率最大为35.4%。

• 单位
  河南城建学院; 数理学院